Bitte um Mitwirkung: Umfrage zur strategischen Autonomie der Photonik am Standort Deutschland

In Zusammenarbeit mit dem Marktforschungsunternehmen TEMATYS führt SPECTARIS daher eine Untersuchung zur strategischen, d.h. zur wirtschaftlichen und technologischen Autonomie der Photonik am Standort Deutschland durch. Ein wesentliches Ziel des Projektes ist es, die Bedeutung der Photonik für andere Schlüssel- und Zukunftsindustrien zu unterstreichen, darzustellen, welche Folgen ein Ausbleiben von Produkten der Photonik für diese Anwendungsbereiche haben könnte und daraus Forderungen in Richtung Politik abzuleiten, um insbesondere die wirtschaftliche Autonomie der Photonik zu stärken.
 

Deutscher Zukunftspreis 2020 für EUV-Lithographie

V.li.: Bundespräsident Steinmeier verleiht den Zukunftspreis an Dr. rer. nat. Peter Kürz, Dr. rer. nat. Michael Kösters und Dr. rer. nat. Sergiy Yulin. Bilquelle: Stifterverband für die Deutsche Wissenschaft e.V. / Deutscher Zukunftspreis

Ein Entwickler-Team von ZEISS, TRUMPF und Fraunhofer IOF erhält den Zukunftspreis des Bundespräsidenten für das Projekt „EUV-Lithographie – neues Licht für das digitale Zeitalter“.

Bei der feierlichen Preisverleihung am 25. November 2020 in Berlin erhielt das Team um Dr. rer. nat. Peter Kürz, Dr. rer. nat. Michael Kösters und Dr. rer. nat. Sergiy Yulin den Zukunftspreis als Anerkennung für seine herausragende Arbeit zur Entwicklung der EUV-Technologie. Mithilfe des Verfahrens, das auf der Nutzung von Licht im extremen Ultraviolett (EUV) und einem industriellen CO2-Laser basiert, lassen sich mikroelektronische Bauteile mit feinen Strukturen fertigen. Dadurch können besonders leistungsfähige, energieeffiziente und kostengünstige Mikrochips hergestellt werden. Diese neuartigen Mikrochips werden von den führenden Herstellern des Smartphone- und Halbleitersegments bereits verwendet.

Mit dem Deutschen Zukunftspreis zeichnet der Bundespräsident exzellente Forschungs- und Entwicklungsprojekte mit einem hohen wissenschaftlich-technischen Innovationsgrad und Potenzial zur zukunftsfähigen Umsetzung aus.

Wir gratulieren unseren Mitgliedern ZEISS und TRUMPF sowie dem Fraunhofer IOF ganz herzlich zu diesem herausragenden Erfolg!

Über die Preisträger

Dr. rer. nat. Peter Kürz ist Vice President des Geschäftsbereichs EUV High-NA bei ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology in Oberkochen. Dr. rer. nat. Michael Kösters ist Gruppenleiter bei TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing in Ditzingen und Dr. rer. nat. Sergiy Yulin ist Senior Principal Scientist am Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF in Jena.

Die offizielle Pressemeldung sowie weitere Informationen zur EUV-Lithographie erhalten Sie hier.